Сайт бібліотеки  >  Електронний каталог  >  Опис документа

Опис документа

Тетерук Д. В., Тарелкин С. А., Бормашов В. С., Волков А. П., Корнилов Н. В., Терентьев С. А.
Легирование алмаза, выращенного методом газофазного осаждения

Вид документа:  Складова частина документа 
Мова:  Російська  Обсяг:  С. 56-58 
УДК:  548.55 

Аннотацiя:

Изучение процессов и методов легирования алмаза, выращенного методом газофазного осаждения (Chemical Vapor Deposition - CVD) - одна из наиболее актуальных задач в алмазной электронике на сегодняшний день. Понимание природы процесса легирования алмаза необходимо для совершенствования электронных свойств алмаза и применения его как полупроводникового материала в микроэлектронике. В представленной работе изложены результаты исследования процессов легирования алмаза бором и азотом и предложены новые методы легирования алмаза. Представлены результаты измерений концентрации легирующих примесей и электронных свойств полученных алмазных слоев.

Є складовою частиною документа Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология [Текст]. Т. 57. № 5 / М-во общ. и проф. образования РФ. — Иваново : Иван. хим.-технол. ин-та, 2014.

Теми документа

• УДК/5 Математика та природничi науки/54 Хiмiя. Кристалографiя. Мiнералогiя/548 Кристалографія/548.5 Зародження, ріст та розчинення кристалів