Сайт бібліотеки  >  Електронний каталог  >  Опис документа

Опис документа

Ткаченко А. В., Ананьїна О. Ю.
Вплив впровадження атомів бору на фізико-хімічні властивості поверхні SiO2/Si(100)

Вид документа:  Складова частина документа 
Мова:  Українська  Обсяг:  C. 419-422 
УДК:  539.621.0.39 

Аннотацiя:

У данній роботі представлені результати квантово-хімічного моделювання адсорбції атомів бору на поверхні SiO2/Si(100). Отримані енергетичні характеристики адсорбції. Розраховані геометричні та електричні характеристики поверхні SiO2/Si(100) з впровадженими атомами бору.

Є складовою частиною документа Фізика і хімія твердого тіла [Текст] = Physics and chemistry of solid state : науковий журнал. Т. 11. № 2 / Прикарпатський нац. ун-т ім. Василя Стефаника, Фізико- хімічний інститут, Асоціація "Вчені Прикарпаття". — Івано- Франківськ : Плай, 2010.

Теми документа

• УДК/5 Математика та природничi науки/53 Фiзика/539 Фізична природа матерії/539.6 Міжмолекулярні сили